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Utilize este identificador para citar ou criar um link para este item: http://acervodigital.unesp.br/handle/11449/25375
Título: 
Effects of annealing on the crystallization and roughness of PLZT thin films
Autor(es): 
Instituição: 
  • Universidade Estadual Paulista (UNESP)
  • University of Belgrade
ISSN: 
0040-6090
Resumo: 
Lead lanthanum zirconate titanate (PLZT) thin films with stoichiometry (9/65/35) were prepared by a dip-coating process using a polymeric organic solution. The solution viscosity was adjusted in the range of 15-56 cP. Silicon (100) substrates were previously cleaned and then immersed in the solution. The withdrawal speed of substrate from the solution was adjusted within a range of 5 to 20 mm/min. The coated substrates were thermally treated in the 450-700 degreesC temperature range. Surface roughness and crystallization of these films are strongly dependent on the annealing conditions. Infrared and X-ray diffraction data for PLZT powders heat-treated at 650 degreesC for 3 h show that the material is free of carbonate phases and crystalline. (C) 2001 Elsevier B.V. B.V. All rights reserved.
Data de publicação: 
1-Mar-2001
Citação: 
Thin Solid Films. Lausanne: Elsevier B.V. Sa, v. 384, n. 1, p. 132-137, 2001.
Duração: 
132-137
Publicador: 
Elsevier B.V.
Palavras-chaves: 
  • annealing
  • crystallization
  • surface roughness
  • x-ray diffraction
Fonte: 
http://dx.doi.org/10.1016/S0040-6090(00)01782-X
Endereço permanente: 
Direitos de acesso: 
Acesso restrito
Tipo: 
outro
Fonte completa:
http://repositorio.unesp.br/handle/11449/25375
Aparece nas coleções:Artigos, TCCs, Teses e Dissertações da Unesp

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