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Utilize este identificador para citar ou criar um link para este item: http://acervodigital.unesp.br/handle/11449/25404
Título: 
Ferroelectric and dielectric properties of Ba0.5Sr0.5(Ti0.80Sn0.20)O-3 thin films grown by the soft chemical method
Autor(es): 
Instituição: 
  • Universidade Estadual Paulista (UNESP)
  • Univ Estadual Ponta Grossa
  • Universidade Federal de São Carlos (UFSCar)
ISSN: 
0022-4596
Resumo: 
Polycrystalline Ba0.5Sr0.5(Ti0.80Sn0.20)O-3 (BST:Sn) thin films with a perovskite structure were prepared by the soft chemical method on a platinum-coated silicon substrate from spin-coating technique. The resulting thin films showed a dense structure with uniform grain size distribution. The dielectric constant of the films estimated from C-V curve is around 1134 and can be ascribed to a reduction in the oxygen vacancy concentration. The ferroelectric nature of the film indicated by butterfly-shaped C-V curves and confirmed by the hysteresis curve, showed remnant polarization of 14 mu C/cm(2) and coercive field of 74 kV/cm at frequency of 1 MHz. At the same frequency, the leakage current density at 1.0 V is equal to 1.5 x 10(-7) A/cm(2). This work clearly reveals the highly promising potential of BST:Sn for application in memory devices. (c) 2006 Elsevier B.V. All rights reserved.
Data de publicação: 
1-Out-2006
Citação: 
Journal of Solid State Chemistry. San Diego: Academic Press Inc. Elsevier B.V., v. 179, n. 10, p. 2972-2976, 2006.
Duração: 
2972-2976
Publicador: 
Elsevier B.V.
Palavras-chaves: 
  • crystallization
  • film deposition
  • space charge effects
  • thin films
Fonte: 
http://dx.doi.org/10.1016/j.jssc.2006.06.023
Endereço permanente: 
Direitos de acesso: 
Acesso restrito
Tipo: 
outro
Fonte completa:
http://repositorio.unesp.br/handle/11449/25404
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