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Utilize este identificador para citar ou criar um link para este item: http://acervodigital.unesp.br/handle/11449/25592
Título: 
SrBi2(Ta0.5Nb0.5)(2)O-9 : W thin films obtained by chemical solution deposition: Morphological and ferroelectric characteristics
Autor(es): 
Instituição: 
  • Universidade Federal de São Carlos (UFSCar)
  • Universidade Estadual Paulista (UNESP)
ISSN: 
0925-8388
Resumo: 
The effect of tungsten (W6+) ion substituting on dielectric and ferroelectric behavior in SrBi2(Ta0.5Nb0.5)(2)O-9 (SBTN) thin films prepared by polymeric precursor method was investigated at room temperature. The addition of W6+ ion in the SBTN lattice was evaluated by X-ray diffraction (XRD), microstructural and dielectrical properties. An increase in the grain size is evident when tungsten is introduced in the SBTN lattice. Substitution of tungsten until 10% on B site leads to introduce space charge polarization into the system, resulting in an appreciable decrease in both dielectric constant and tangent loss. The morphology of the thin films investigated by atomic force microscopy leads to an increase in the grain size after tungsten addition. Fatigue resistance was noted with increase in tungsten addition. (C) 2007 Elsevier B.V. All rights reserved.
Data de publicação: 
11-Ago-2008
Citação: 
Journal of Alloys and Compounds. Lausanne: Elsevier B.V. Sa, v. 461, n. 1-2, p. 326-330, 2008.
Duração: 
326-330
Publicador: 
Elsevier B.V. Sa
Palavras-chaves: 
  • thin films
  • ferroelectrics
  • chemical synthesis
  • atomic force microscopy
  • dielectric response
Fonte: 
http://dx.doi.org/10.1016/j.jallcom.2007.06.115
Endereço permanente: 
Direitos de acesso: 
Acesso restrito
Tipo: 
outro
Fonte completa:
http://repositorio.unesp.br/handle/11449/25592
Aparece nas coleções:Artigos, TCCs, Teses e Dissertações da Unesp

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