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Utilize este identificador para citar ou criar um link para este item: http://acervodigital.unesp.br/handle/11449/9150
Título: 
Material processing by plasma shock wave generated in an inverse Z-pinch plasma expander
Autor(es): 
Instituição: 
Universidade Estadual Paulista (UNESP)
ISSN: 
0094-243X
Resumo: 
The applicability of plasma shock wave for material processing was investigated using modified inverse Z-pinch device. Shock wave expanding speed and plasma spectral analysis were studied using an internal magnetic,probe and spatially collimated light spectroscopy. The material processing capability of the device was shown by many different surface analysis techniques such as AES, IRS, EPM and SEM. The interactions between a plasma shock wave of similar to4x10(6) cm/s speed with a Si substrate surface shows some ion implantation capability using a nitrogen plasma and thin film formation using a methane plasma.
Data de publicação: 
1-Jan-2003
Citação: 
Plasma Physics. Melville: Amer Inst Physics, v. 669, p. 339-342, 2003.
Duração: 
339-342
Publicador: 
American Institute of Physics (AIP)
Fonte: 
http://dx.doi.org/10.1063/1.1593934
Endereço permanente: 
http://hdl.handle.net/11449/9150
Direitos de acesso: 
Acesso restrito
Tipo: 
outro
Fonte completa:
http://repositorio.unesp.br/handle/11449/9150
Aparece nas coleções:Artigos, TCCs, Teses e Dissertações da Unesp

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