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| Caracterização de filmes finos obtidos por deposição de vapor químico assistido a plasma (PECVD) e deposição e implantação iônica por imersão em plasma (PIIID) | 181 |
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| Caracterização de filmes finos obtidos por deposição de vapor químico assistido a plasma (PECVD) e deposição e implantação iônica por imersão em plasma (PIIID) | 0 | 3 | 6 | 1 | 7 | 12 | 1 |
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Países com Maior Acesso
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| Estados Unidos | 99 |
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| França | 3 |
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Cidades com Maior Acesso
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| San Mateo | 10 |
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| Jacksonville | 5 |
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| San Jose | 4 |
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