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Caracterização de filmes finos obtidos por deposição de vapor químico assistido a plasma (PECVD) e deposição e implantação iônica por imersão em plasma (PIIID) | 100 |
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Caracterização de filmes finos obtidos por deposição de vapor químico assistido a plasma (PECVD) e deposição e implantação iônica por imersão em plasma (PIIID) | 1 | 5 | 12 | 3 | 9 | 6 | 1 |
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Estados Unidos | 42 |
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Alemanha | 10 |
China | 8 |
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Ucrânia | 4 |
Austrália | 1 |
República Tcheca | 1 |
França | 1 |
Reino Unido | 1 |
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Ashburn | 6 |
Jacksonville | 5 |
San Mateo | 4 |
São Paulo | 3 |
Dearborn | 2 |
Jiaxing | 2 |
Nanjing | 2 |
Natal | 2 |
Porto Alegre | 2 |
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