Você está no menu de acessibilidade

Utilize este identificador para citar ou criar um link para este item: http://acervodigital.unesp.br/handle/11449/25668
Título: 
Effect of niobium dopant on fatigue characteristics of BiFeO3 thin films grown on Pt electrodes
Autor(es): 
Instituição: 
Universidade Estadual Paulista (UNESP)
ISSN: 
0925-8388
Financiador: 
  • Coordenação de Aperfeiçoamento de Pessoal de Nível Superior (CAPES)
  • Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo (FAPESP)
  • Conselho Nacional de Desenvolvimento Científico e Tecnológico (CNPq)
Resumo: 
Pure BiFeO3 (BFO) and Nb-doped (BFN) thin films were fabricated by the soft chemical method. The films were polycrystalline when deposited on Pt/Ti/SiO2/Si substrate and annealed at 500 degrees C for 2 h. X-ray diffraction analysis revealed that the film was fully crystallized. The grain size decreased in the BFN films due the suppression of oxygen vacancy concentration in the BFO lattice. The Nb dopant is effective in improving electrical properties of BFO films. With increase niobium content we obtained thin films free of fatigue up to 10(8) cycles. (C) 2009 Published by Elsevier B.V.
Data de publicação: 
24-Jun-2009
Citação: 
Journal of Alloys and Compounds. Lausanne: Elsevier B.V. Sa, v. 479, n. 1-2, p. 274-279, 2009.
Duração: 
274-279
Publicador: 
Elsevier B.V. Sa
Palavras-chaves: 
  • Ferroelectrics
  • Thin films
  • Chemical synthesis
  • X-ray diffraction
  • Transmission electron microscopy
Fonte: 
http://dx.doi.org/10.1016/j.jallcom.2009.01.074
Endereço permanente: 
Direitos de acesso: 
Acesso restrito
Tipo: 
outro
Fonte completa:
http://repositorio.unesp.br/handle/11449/25668
Aparece nas coleções:Artigos, TCCs, Teses e Dissertações da Unesp

Não há nenhum arquivo associado com este item.
 

Itens do Acervo digital da UNESP são protegidos por direitos autorais reservados a menos que seja expresso o contrário.