Deposition and etching of HMDSO/SF6 plasma polymerized thin films.

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Título:

Autor(es):

Instituição:

Universidade Estadual Paulista (UNESP)

ISSN:

0065-7727

Data de publicação:

13-Abr-1997

Citação:

Abstracts of Papers of the American Chemical Society. Washington: Amer Chemical Soc, v. 213, p. 456-POLY, 1997.

Duração:

456-POLY

Publicador:

Amer Chemical Soc

Endereço permanente:

Direitos de acesso:

Acesso restrito

Tipo:

outro

Fonte completa:

http://repositorio.unesp.br/handle/11449/37920

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