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Utilize este identificador para citar ou criar um link para este item: http://acervodigital.unesp.br/handle/11449/42256
Título: 
Dielectric properties of pure and lanthanum modified bismuth titanate thin films
Autor(es): 
Instituição: 
  • Universidade Estadual Paulista (UNESP)
  • Universidade Federal de São Carlos (UFSCar)
ISSN: 
0925-8388
Resumo: 
We investigated the dielectric properties of pure and lanthanum modified bismuth titanate thin films obtained by the polymeric precursor method. X-ray diffraction of the film annealed at 300 degrees C for 2h indicates a disordered structure. Lanthanum addition increases gradually the dielectric permittivity of films, keeping unchanged their loss tangent. From C-V curve we can see no hysteresis behavior indicating the absence of domain structure. The decrease in the conductivity for the heavily doped Bi4Ti3O12 (BIT) must be associated to the unidentified crystal defects. For comparison, dielectric properties of crystalline BIT film were also investigated. (C) 2007 Published by Elsevier B.V.
Data de publicação: 
24-Abr-2008
Citação: 
Journal of Alloys and Compounds. Lausanne: Elsevier B.V. Sa, v. 454, n. 1-2, p. 66-71, 2008.
Duração: 
66-71
Publicador: 
Elsevier B.V. Sa
Palavras-chaves: 
  • thin films
  • chemical synthesis
  • dielectric response
  • disordered structure
Fonte: 
http://dx.doi.org/10.1016/j.jallcom.2006.12.066
Endereço permanente: 
Direitos de acesso: 
Acesso restrito
Tipo: 
outro
Fonte completa:
http://repositorio.unesp.br/handle/11449/42256
Aparece nas coleções:Artigos, TCCs, Teses e Dissertações da Unesp

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